
Filmetrics 光學(xué)厚膜測(cè)厚儀
簡(jiǎn)要描述:Filmetrics F3-sX 光學(xué)厚膜測(cè)厚儀利用光譜反射原理,可以測(cè)量厚度達(dá)到3毫米的眾多半導(dǎo)體及介電層薄膜。相對(duì)于較薄的膜層,這種厚膜的表面較粗糙且不均勻,F(xiàn)3-sX系列膜厚儀配置10微米的測(cè)量光斑,從而可以容易地測(cè)量其他膜厚測(cè)量?jī)x器不能測(cè)量的膜層,并且僅在幾分之一秒內(nèi)完成。F3-sX膜厚儀在Si晶圓厚度測(cè)量、護(hù)涂層、IC芯片失效分析、厚光刻膠等方面優(yōu)異表現(xiàn)。
產(chǎn)品型號(hào):F3-sX
廠商性質(zhì):代理商
更新時(shí)間:2025-06-24
訪 問(wèn) 量:2564
Filmetrics F3-sX 光學(xué)厚膜測(cè)厚儀
Filmetrics F3-sX 光學(xué)厚膜測(cè)厚儀產(chǎn)品介紹:
Filmetrics F3-sX 光學(xué)厚膜測(cè)厚儀利用光譜反射原理,可以測(cè)量厚度達(dá)到3毫米的眾多半導(dǎo)體及介電層薄膜。相對(duì)于較薄的膜層,這種厚膜的表面較粗糙且不均勻,F(xiàn)3-sX系列膜厚儀配置10微米的測(cè)量光斑,從而可以容易地測(cè)量其他膜厚測(cè)量?jī)x器不能測(cè)量的膜層,并且僅在幾分之一秒內(nèi)完成。F3-sX膜厚儀在Si晶圓厚度測(cè)量、護(hù)涂層、IC芯片失效分析、厚光刻膠等方面優(yōu)異表現(xiàn)。
Filmetrics F3-sX 光學(xué)厚膜測(cè)厚儀產(chǎn)品特點(diǎn)優(yōu)勢(shì):
非接觸測(cè)量:避免損傷薄膜,適用于脆弱或敏感材料;
多場(chǎng)景適用性:基本上光滑的、半透明的或低吸收系數(shù)的薄膜都可以測(cè)量。
測(cè)量速度快:配置完成后,數(shù)秒內(nèi)即可完成測(cè)量。
采用近紅外光(NIR)來(lái)測(cè)量膜層厚度,因此可以測(cè)試一些肉眼看是不透明的膜層
配件包括自動(dòng)繪圖平臺(tái)、測(cè)量點(diǎn)可視化攝像機(jī),和可見光擴(kuò)展波段選項(xiàng)
Filmetrics F3-sX 光學(xué)厚膜測(cè)厚儀產(chǎn)品測(cè)量原理:
當(dāng)入射光穿透不同物質(zhì)的界面時(shí)將會(huì)有部分的光被反射,由于光的波動(dòng)性導(dǎo)致從多個(gè)界面的反射光彼此干涉,從而使反射光的多波長(zhǎng)光譜產(chǎn)生震蕩的現(xiàn)象。從光譜的震蕩頻率,可以判斷不同界面的距離進(jìn)而得到材料的厚度(越多的震蕩代表越大的厚度),同時(shí)也能得到其他的材料特性如折射率與粗糙度。
Filmetrics F3-sX 光學(xué)厚膜測(cè)厚儀產(chǎn)應(yīng)用與膜層范例:
薄膜特性:厚度、反射率、透射率、光學(xué)常數(shù)、均勻性、刻蝕量等
薄膜種類:透明及半透明薄膜,常見如氧化物、聚合物甚至空氣
薄膜狀態(tài):固態(tài)、液態(tài)和氣態(tài)薄膜都可以測(cè)量
薄膜結(jié)構(gòu):單層膜、多層膜;平面、曲面
Filmetrics F3-sX 光學(xué)厚膜測(cè)厚儀產(chǎn)品常見工業(yè)應(yīng)用:
顯示技術(shù) | 消費(fèi)電子 | 派瑞林 | |
光刻膠 | OLED | 防水涂層 | 電子產(chǎn)品/電路板 |
介電層 | ITO和TCOs | 射頻識(shí)別 | 磁性材料 |
砷化鎵 | 空氣盒厚 | 太陽(yáng)能電池 | 醫(yī)學(xué)器械 |
微機(jī)電系統(tǒng) | PVD和CVD | 鋁制外殼陽(yáng)極膜 | 硅橡膠 |
Filmetrics F3-sX 光學(xué)厚膜測(cè)厚儀產(chǎn)品參數(shù):
波長(zhǎng)范圍: | 1280-1340nm | 光源: | 200KMTBFSLED |
厚度測(cè)量范圍n=1.5: | 15um-2mm | 厚度測(cè)量范圍n=3.5: | 7um-1mm |
光斑大小: | 標(biāo)準(zhǔn)工作距離53mm | 測(cè)量精度: | 5nm2 |