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KLA 白光共聚焦顯微鏡

簡(jiǎn)要描述:KLA Zeta-20白光共聚焦顯微鏡基于ZDot技術(shù)而來(lái)。Zeta-20 白光共聚焦顯微鏡可以對(duì)大部分材料和結(jié)構(gòu)進(jìn)行成像分析,從光滑到高粗糙度、低反射率到高反射率表面、透明到不透明介質(zhì)。KLA Zeta-20白光共聚焦顯微鏡使用模塊化設(shè)計(jì)理念,為用戶提供了一系列的硬件和軟件選項(xiàng)來(lái)滿足各種不同的測(cè)量需求,所有硬件安裝和操作都簡(jiǎn)單易用。

  • 產(chǎn)品型號(hào):Zeta-20
  • 廠商性質(zhì):代理商
  • 更新時(shí)間:2025-06-25
  • 訪  問(wèn)  量:3470
產(chǎn)品詳情

KLA Zeta-20 白光共聚焦顯微鏡





KLA Zeta-20 白光共聚焦顯微鏡產(chǎn)品介紹:

KLA Zeta-20白光共聚焦顯微鏡基于ZDot技術(shù)而來(lái)。Zeta-20 白光共聚焦顯微鏡可以對(duì)大部分材料和結(jié)構(gòu)進(jìn)行成像分析,從光滑到高粗糙度、低反射率到高反射率表面、透明到不透明介質(zhì)。KLA Zeta-20白光共聚焦顯微鏡使用模塊化設(shè)計(jì)理念,為用戶提供了一系列的硬件和軟件選項(xiàng)來(lái)滿足各種不同的測(cè)量需求,所有硬件安裝和操作都簡(jiǎn)單易用。


KLA Zeta-20 白光共聚焦顯微鏡產(chǎn)品特點(diǎn):

  • Zeta-20 白光共聚焦顯微鏡提供多種光學(xué)測(cè)試技術(shù),以滿足用戶各種不同領(lǐng)域的測(cè)試需求。

  • ZDotZ點(diǎn)陣三維成像技術(shù)是Zeta所有系列產(chǎn)品的標(biāo)配技術(shù),Z點(diǎn)陣的明暗場(chǎng)照明方案結(jié)合不同物鏡幫助客戶測(cè)量“困難"的表面。

  • ZIC干涉反襯成像技術(shù),實(shí)現(xiàn)納米級(jí)粗糙度表面的成像及分析。

  • ZSI白光差分干涉技術(shù),垂直方向分辨率可達(dá)埃級(jí)。

  • ZI 白光干涉技術(shù),大視場(chǎng)下納米級(jí)高度的理想測(cè)量技術(shù)。       

  • ZFT反射光譜膜厚分析技術(shù),集成寬頻反射光譜分析儀,可測(cè)量ULA+ 2et-20薄膜材料的厚度、折射率和反射率。


KLA Zeta-20 白光共聚焦顯微鏡產(chǎn)品優(yōu)勢(shì):

  • 重復(fù)性和再現(xiàn)性

  • 接觸式測(cè)量,適用于多種材料

  • 測(cè)量軟材料的微力控制

  • 梯形失真校正可大幅度減少側(cè)視圖造成的失真

  • 弧形校正補(bǔ)償探針的弧形運(yùn)動(dòng)


KLA Zeta-20 白光共聚焦顯微鏡產(chǎn)品測(cè)量原理:

KLA Zeta-20 白光共聚焦顯微鏡的原理是通過(guò)共聚焦原理實(shí)現(xiàn)樣品的高分辨率、高對(duì)比度的光學(xué)切片能力。它結(jié)合了傳統(tǒng)光學(xué)顯微鏡和激光共聚焦顯微鏡的特點(diǎn),利用寬譜白光作為光源,通過(guò)空間濾波機(jī)制消除離焦光干擾,從而獲得高精度的三維圖像。


KLA Zeta-20 白光共聚焦顯微鏡主要應(yīng)用:

臺(tái)階高度

紋理

外形

應(yīng)力

薄膜厚度

缺陷檢測(cè)


KLA Zeta-20 白光共聚焦顯微鏡產(chǎn)品參數(shù):


ZDOT

ZI

ZIC

ZSI

ZFT

粗糙度:> 40nm





粗糙度:<40nm





大視場(chǎng)、Z方向高分辨率





15nm-25mm臺(tái)階高度





5nm-100µm臺(tái)階高度





<10nm 臺(tái)階高度





缺陷:尺寸 <1µm,高度 <75nm



缺陷:尺寸 >1µm,高度 >75nm





30nm<薄膜和厚度 <15µm






薄膜厚度 >15µm






KLA Zeta-20 白光共聚焦顯微鏡測(cè)量圖:


自動(dòng)缺陷檢查

臺(tái)階高度


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