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KLA 探針式臺階儀

簡要描述:KLA P-17 探針式臺階儀是P系列探針式臺階儀的產(chǎn)品。該系統(tǒng)具備可編程掃描平臺、低噪聲電子分辨率,垂直范圍內(nèi)實現(xiàn)高分辨率掃描,能夠覆蓋樣品表面整個區(qū)域。KLA P-17 探針式臺階儀的優(yōu)點包括200mm掃描平臺,可以在無需拼接的情況下測量整個基片。UltraLite傳感器組件結(jié)合了線性垂直測量和恒定力控制,可測量各種材料和地形。

  • 產(chǎn)品型號:P-17
  • 廠商性質(zhì):代理商
  • 更新時間:2025-06-25
  • 訪  問  量:2416
產(chǎn)品詳情

KLA P-17 探針式臺階儀




KLA P-17 探針式臺階儀產(chǎn)品介紹:

KLA P-17 探針式臺階儀是P系列探針式臺階儀的產(chǎn)品。該系統(tǒng)具備可編程掃描平臺、低噪聲電子分辨率,垂直范圍內(nèi)實現(xiàn)高分辨率掃描,能夠覆蓋樣品表面整個區(qū)域。

KLA P-17 探針式臺階儀的優(yōu)點包括200mm掃描平臺,可以在無需拼接的情況下測量整個基片。UltraLite傳感器組件結(jié)合了線性垂直測量和恒定力控制,可測量各種材料和地形。頂視圖和側(cè)視圖光學(xué)系統(tǒng)可實現(xiàn)簡單的位置教學(xué)、圖案識別,并在測量過程中對探針進行可視化。

KLA P-17 探針式臺階儀將自動化與可靠性相結(jié)合,適用于無需晶圓處理器的生產(chǎn)應(yīng)用。這些應(yīng)用包括用于半導(dǎo)體、功率器件、無線技術(shù)、LED和數(shù)據(jù)存儲領(lǐng)域的AlTiC、GaAs、Si、SiC和藍寶石晶圓的臺階高度、粗糙度和應(yīng)力測量。


KLA P-17 探針式臺階儀產(chǎn)品特點:

  • 良好的重復(fù)性和重現(xiàn)性

  • 不需要拼接,掃描長度可達200mm

  • 直接、獨立于材料的測量

  • 自動維護特征高度的應(yīng)用程序。

  • 模式識別支持自動測量,提高生產(chǎn)率。

  • 支持用于自動排序、結(jié)果報告和配方

  • 數(shù)據(jù)庫控制的SecS/GEM要求



KLA P-17 探針式臺階儀測量原理:

KLA P-17 探針式臺階儀采用了LVDC 傳感器技術(shù),LVDC傳感器利用電容的變化跟蹤表面地形。電容變化是由在兩個電容板之間移動的薄金屬傳感器葉片的運動引起的。在探針跟蹤表面時,傳感器葉片的位置會發(fā)生變化,從而導(dǎo)致電容的變化,然后將電容變化轉(zhuǎn)換為地形信號。LVDC 設(shè)計的優(yōu)點是質(zhì)量小,葉片線性運動,從而將滯后和摩擦降到很低。這種設(shè)計能夠在整個垂直范圍內(nèi)進行精確、穩(wěn)定和高分辨率的測量 。




KLA P-17 探針式臺階儀主要應(yīng)用:

表面形貌的高分辨率二維和三維掃描

從納米到1mm的臺階高度

光滑粗糙紋理的粗糙度和波紋度

弓形和曲率半徑

用Stoney方程計算薄膜應(yīng)力

利用KLARF文件進行缺陷描述及缺陷評審應(yīng)用


KLA P-17 探針式臺階產(chǎn)品應(yīng)用:

臺階高度

根據(jù)傳感器組合動態(tài)范圍,測量從納米到1mm的二維和三維臺階高度。量化在蝕刻、濺射、SIMS、沉積、自旋涂層、CMP和其他過程中沉積或除去的材料。

紋理:粗糙度和波紋度

測量二維和三維紋理,同時量化樣品的粗糙度和波紋度。利用軟件濾波器對粗糙度和波紋分量進行判別,并計算出均方根粗糙度等參數(shù)。

形式:弓和形狀

測量表面的2D形狀或弓,包括在器件制造過程中由于層應(yīng)力失配而產(chǎn)生的晶圓弓,例如在半導(dǎo)體或復(fù)合半導(dǎo)體器件的生產(chǎn)中多層沉積。測量曲面結(jié)構(gòu)的高度和半徑,如透鏡。

薄膜應(yīng)力

測量在具有多個工藝層的半導(dǎo)體或化合物半導(dǎo)體器件制造過程中引起的2D和3D應(yīng)力。2D應(yīng)力模式使用橫跨樣品直徑的單次掃描,而3D應(yīng)力模式在2D掃描之間旋轉(zhuǎn)θ級以測量整個樣品表面。

缺陷檢測

測量缺陷的形貌,如劃痕的深度。從缺陷檢查工具導(dǎo)入KLARF位置坐標,以便自動導(dǎo)航到特定的缺陷。使用缺陷評審應(yīng)用程序選擇用于2D或3D測量的單個缺陷。


KLA P-17 探針式臺階行業(yè)應(yīng)用:

半導(dǎo)體和復(fù)合半導(dǎo)體

測量前端到后端和包裝過程的表面形貌。這些應(yīng)用包括光致抗蝕劑厚度、蝕刻深度、濺射高度、CMP后形貌、粗糙度、樣品彎曲和應(yīng)力的測量。使用模式識別和自動分析優(yōu)化測量精度,以完善生產(chǎn)過程控制。

LED和電源設(shè)備

測量圖案化工藝的臺階高度,包括MESA臺階高度、ITO臺階高度和接觸深度。測量可能導(dǎo)致裂紋和缺陷的襯底滾落、彎曲、外延粗糙度和外延薄膜應(yīng)力。使用缺陷審查應(yīng)用程序來區(qū)分滋擾或缺陷。

MEMS和光學(xué)電子

測量宏觀和微觀透鏡的臺階高度、曲率半徑和3D地形。測量波導(dǎo)和密集波分復(fù)用(DWDM)結(jié)構(gòu)的深度和表面粗糙度。

數(shù)據(jù)存儲

描述薄膜頭晶片和滑塊、硬盤、光學(xué)和磁性介質(zhì)的特性。晶片應(yīng)用包括電鍍厚度、線圈高度和CMP平面度?;瑝K應(yīng)用包括極性凹陷分析、空氣軸承腔測量和激光紋理凸塊表征,包括凸塊高度、寬度和深度分析。

通用應(yīng)用

使用KLA P-17 探針式表面輪廓儀進行生產(chǎn)或研發(fā)。例如,測量織物安全特性或與吸收性相關(guān)的粗糙度。生物醫(yī)學(xué)示例包括導(dǎo)管表面紋理、醫(yī)用支架的測量消費者電子應(yīng)用包括觸摸屏地形測量或玻璃屏幕上薄膜臺階高度測量。



KLA P-17 探針式臺階儀測量圖:





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